高效鍍硬鉻催化劑

 

鉻酐	250g/L
硫酸	2.7g/L
HVEE(開缸)	3g/L
三價鉻	1～3g/L
溫度	55～60℃
DK	30～90A/dm2
陰陽極面積比	2～3:1
HVEE補給量	2g/KAH

 

HVEE随鉻(gè)酸消耗量的比例消耗，一般消耗100g的鉻(gè)酸，相應(yīng)消耗1.5g的HVEE。

 

1. 陰極電流效率高達(dá)22～26%，是傳(chuán)統标準鍍鉻工藝的2～3倍，節約能源。 

2. 使用電(diàn)流密度寬廣(guǎng)，30～90A/dm2均可，沉積速度快。 

3. 不含氟化物，對基體的低電(diàn)流密度區不産(chǎn)生腐蝕，對陽極無腐蝕。 

4. 鍍層(céng)硬度HV可達(dá)1000～1100，微裂紋數達(dá)400～1000條/cm。 

5. 鍍(dù)層(céng)光亮，平滑細緻，厚度均勻，深鍍(dù)能力佳。 

6. 鍍(dù)液穩定，易操作，維護(hù)方便。